期刊


ISSN0913-5685
刊名電子情報通信学会技術研究報告
参考译名电子信息通信学会技术研究报告：可靠性
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2010, vol.110, no.99

题名作者出版年年卷期
Snをドープしたシリカガラス薄膜の可視発光特性望月翔太; 野毛悟20102010, vol.110, no.154
液液界面析出したC_(60)の光励起ポリマー形成小出大樹; 加藤翔太; 池田恵理; 岩田展幸; 山本寛20102010, vol.110, no.154
触媒反応により生成した水分子ビームを用いたZnO結晶薄膜のエピタキシャル成長田原将巳; 三浦仁嗣; 黒田朋義; 西山洋; 安井寛治20102010, vol.110, no.154
水平配向したカーボンナノチューブからの電界電子放出斉藤裕史; 山上朋彦; 林部林平; 大池匠; 山下将弘; 上村喜一20102010, vol.110, no.154
室温にてスパッタ法により作製したAZO薄膜の特性の検討清水英彦; 樫出淳; 岩野春男; 川上貴浩; 福嶋康夫; 永田向太郎; 星陽一20102010, vol.110, no.154
伝送線上のアイパターンを改善する技術の提案と実測評価石黒将巳; 島内優希; 相部範之; 吉原郁夫; 安永守利20102010, vol.110, no.154
ガスフロースパッタ法によるFe_3O_4のGaAs上へのエピタキシャル成長佐久間洋志; 設樂裕紀; 鍵康人; 鈴木涼; 石井清20102010, vol.110, no.154
レーザーアブレーション法によるSi基板上AlN薄膜の形成中澤日出樹; 鈴木大樹; 遅澤遼一; 岡本浩20102010, vol.110, no.154
TDEAV原料を用いたVN_x膜のALD成膜武山真弓; 佐藤勝; 須藤弘; 町田英明; 伊藤俊; 青柳英二; 野矢厚20102010, vol.110, no.154
超臨界流体を用いた多孔質低誘電率薄膜プロセス－細孔の評価と洗浄近藤英一20102010, vol.110, no.154
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