期刊


ISSN2433-5835
刊名表面と真空
参考译名表面与真空
收藏年代2019～2024



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2022, vol.65, no.1 2022, vol.65, no.10 2022, vol.65, no.11 2022, vol.65, no.12 2022, vol.65, no.2 2022, vol.65, no.3
2022, vol.65, no.4 2022, vol.65, no.5 2022, vol.65, no.6 2022, vol.65, no.7 2022, vol.65, no.8 2022, vol.65, no.9

题名作者出版年年卷期
歴史は繰り返す－新たな研究のステージへ斉木幸一朗20222022, vol.65, no.4
特集「原子制御CVDが拓く新材料設計」企画趣旨久保利隆; 種村眞幸20222022, vol.65, no.4
原子層物質の化学気相成長の基礎井ノ上泰輝; 丸山茂夫20222022, vol.65, no.4
高品質グラフェンのCVD成長と成長過程の可視化技術吾郷浩樹; 平良隆信20222022, vol.65, no.4
絶縁基板上へのグラフェン直接成膜とデバイス応用村上勝久20222022, vol.65, no.4
六方晶窒化ホウ素／グフフェン積層構造の結晶方位制御谷保芳孝; Shengnan Wang20222022, vol.65, no.4
遷移金属カルコゲナイド原子層·原子細線の化学気相成長宮田耕充20222022, vol.65, no.4
「2021年日本表面真空学会学術講演会」開催報告山崎詩郎; 山本貴博20222022, vol.65, no.4
国際会議ISSS-9オンライン開催報告福井賢一20222022, vol.65, no.4
先端追跡 [R-725]グラフェンによる磁気制御技術丸山耕一20222022, vol.65, no.4
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