期刊


ISSN2433-5835
刊名表面と真空
参考译名表面与真空
收藏年代2019～2025



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2025

2022, vol.65, no.1 2022, vol.65, no.10 2022, vol.65, no.11 2022, vol.65, no.12 2022, vol.65, no.2 2022, vol.65, no.3
2022, vol.65, no.4 2022, vol.65, no.5 2022, vol.65, no.6 2022, vol.65, no.7 2022, vol.65, no.8 2022, vol.65, no.9

题名作者出版年年卷期
歴史は繰り返す－新たな研究のステージへ斉木幸一朗20222022, vol.65, no.4
特集「原子制御CVDが拓く新材料設計」企画趣旨久保利隆; 種村眞幸20222022, vol.65, no.4
原子層物質の化学気相成長の基礎井ノ上泰輝; 丸山茂夫20222022, vol.65, no.4
高品質グラフェンのCVD成長と成長過程の可視化技術吾郷浩樹; 平良隆信20222022, vol.65, no.4
絶縁基板上へのグラフェン直接成膜とデバイス応用村上勝久20222022, vol.65, no.4
六方晶窒化ホウ素／グフフェン積層構造の結晶方位制御谷保芳孝; Shengnan Wang20222022, vol.65, no.4
遷移金属カルコゲナイド原子層·原子細線の化学気相成長宮田耕充20222022, vol.65, no.4
「2021年日本表面真空学会学術講演会」開催報告山崎詩郎; 山本貴博20222022, vol.65, no.4
国際会議ISSS-9オンライン開催報告福井賢一20222022, vol.65, no.4
先端追跡 [R-725]グラフェンによる磁気制御技術丸山耕一20222022, vol.65, no.4
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