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期刊
ISSN
0913-5685
刊名
電子情報通信学会技術研究報告
参考译名
电子信息通信学会技术研究报告:硅器件和材料
收藏年代
2000~2025
全部
2000
2001
2002
2009
2013
2014
2015
2017
2020
2021
2022
2023
2024
2025
2025, vol.125, no.10
题名
作者
出版年
年卷期
スパッタ法による低温ポリSi TFT ~ポリマー上のSi膜の結晶化
野口隆
2025
2025, vol.125, no.10
異なるガラス基板上に形成されたpoly-Ge_(1-x)Sn_x TFTと酸化物TFTを用いたCMOSインバータ
栗原義人; 五嶋大喜; 原明人
2025
2025, vol.125, no.10
[招待講演]機械学習によるSi薄膜レーザーアニール結晶化及びSiCレーザードーピング工程の電気特性推定
池上浩; 中村大輔; 菊地俊文; 片山慶太
2025
2025, vol.125, no.10
[招待講演]ガラス基板上へのグリーンYAGパルスレーザーによる低温多結晶シリコン薄膜の作製: コヒーレンス性を利用した溶融結晶化法と結晶化誘発層を用いた固相結晶化法
堀田將
2025
2025, vol.125, no.10
ポリビニルアルコール/ITO摩擦発電素子のI-V測定による評価
茂田井拓未; 田口大; 間中孝彰
2025
2025, vol.125, no.10
[招待講演]刺激応答材料を利用した着氷雪防止技術
浦田千尋; 穂積篤
2025
2025, vol.125, no.10
[招待講演]権利形成の考え方と産学連携への期待
大久保秀人
2025
2025, vol.125, no.10
[招待講演]RFスパッタにより成膜したInSb薄膜のRTAによる結晶化
岡田竜弥; 野口隆; 佐道泰造
2025
2025, vol.125, no.10
招待講演磁気センサーの現状と課題
吉留省吉
2025
2025, vol.125, no.10
原子状水素·原子状窒素処理による軟X線照射した酸化グラフェンの低温還元·窒素ドープ: 軟X線照射エネルギーの影響
上霜未空; 稲本純一; 松尾吉晃; 神田一浩; 住友弘二; 部家彰
2025
2025, vol.125, no.10
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