期刊


ISSN2433-5835
刊名表面と真空
参考译名表面与真空
收藏年代2019～2023



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2023, vol.66, no.1 2023, vol.66, no.10 2023, vol.66, no.11 2023, vol.66, no.12 2023, vol.66, no.2 2023, vol.66, no.3
2023, vol.66, no.4 2023, vol.66, no.5 2023, vol.66, no.6 2023, vol.66, no.7 2023, vol.66, no.8 2023, vol.66, no.9

题名作者出版年年卷期
Doctoral Study at a German CompanyTakuma SATO20232023, vol.66, no.4
結晶成長：時空間マルチスケールへの挑戦押山淳20232023, vol.66, no.4
特集「結晶成長ダイナミクスの展望-平衡過程と非平衡過程の協奏-」企画趣旨大野真也; 種村眞幸20232023, vol.66, no.4
ファセット化マクロステップのステップ·ダイナミクス: 平衡状態と平衡状態近傍阿久津典子20232023, vol.66, no.4
液晶相を経由した結晶化プロセスによる高品質な真空蒸着有機結晶薄膜の作製丸山伸伍; 小松陽花; 辻田香奈瑛; 神永健一; 松本祐司20232023, vol.66, no.4
SiC溶液成長及び昇華再結晶成長での表面ステップ挙動に端を発する欠陥伝播の解析と両成長法を組み合わせた高品質4H-SiC結晶育成技術の開発三谷武志; 江藤数馬; 窪谷茂幸; 加藤智久20232023, vol.66, no.4
氷-過冷却水成長界面におけるステップバンチング不安定性村田憲一郎; 佐﨑元20232023, vol.66, no.4
窒化物半導体の化学気相成長における表面科学の進展寒川義裕; 草場彰20232023, vol.66, no.4
宇宙空間での結晶成長実験：結晶成長研究の理論的アプローチ三浦均20232023, vol.66, no.4
SiC表面上のステップ構造と吸着原子の拡散過程制野かおり20232023, vol.66, no.4
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