期刊


ISSN2433-5835
刊名表面と真空
参考译名表面与真空
收藏年代2019～2023



全部

2019 2020 2021 2022 2023

2023, vol.66, no.1 2023, vol.66, no.10 2023, vol.66, no.11 2023, vol.66, no.12 2023, vol.66, no.2 2023, vol.66, no.3
2023, vol.66, no.4 2023, vol.66, no.5 2023, vol.66, no.6 2023, vol.66, no.7 2023, vol.66, no.8 2023, vol.66, no.9

题名作者出版年年卷期
2022 JVSS Excellent Presentation AwardsLinghui LI20232023, vol.66, no.8
学会活動のDX化と持続可能なかたち安藤康伸20232023, vol.66, no.8
ヘリウムを添加したアセチレンプラズマ中でのアモルファス炭素膜堆積過程の赤外分光計測桒田篤哉; 中居辰夫; 大石侑叶; 佐々本凌; 篠原正典; 田中諭志; 松本貴士20232023, vol.66, no.8
大気圧下における純ガス及び混合ガス中の電子ドリフト速度と実効電離係数の測定佐々本凌; 花井正広; 篠原正典20232023, vol.66, no.8
層状酸化物単結晶薄膜のトポケミカルフッ化反応と電子物性変化近松彰20232023, vol.66, no.8
単層近藤格子CePt_2/Pt(111)の構造と強相関電子状態家永紘一郎; 金聖憲; 宮町俊生; 小森文夫20232023, vol.66, no.8
有機分子吸着により変調された原子層超伝導横田健太; 稲垣俊輔; 南谷英美; 坂本一之; 内橋隆20232023, vol.66, no.8
ディンプル状周期構造をもつAu電極との界面におけるイオン液体の電位応答挙動今西哲土20232023, vol.66, no.8
1分子を用いた電子放出位置の光制御柳澤啓史20232023, vol.66, no.8
反応性ガスパルスと同期したデジタル処理DCスパッタリング一色秀夫; 中村弦人; 田中康仁; 税所慎一郎20232023, vol.66, no.8
12



制造业外文文献服务平台